PVD真空镀

PVD真空镀

在真空条件下,利用物理方法将材料源(如金属、合金或化合物)气化成原子、分子或离子,然后通过气相传输,沉积在被镀工件的表面,形成一层具有特定性能的薄膜。
  • 蒸发镀
  • 溅射镀
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